计算光刻技术是通过对掩膜、光源的正向或反演优化，降低因光波衍射影响光刻效果的程度。计算光刻是采用计算机模拟、仿真光刻工艺的光化学反应和物理过程，从理论上指导光刻工艺参数的优化。计算光刻通常包括光学邻近效应 修正（OPC）、光源-掩膜协同优化技术 （SMO）、多重图形技术（MPT）、 反演光刻技术（ILT）等四大技术。

格隆汇1月13日丨中船汉光(300847.SZ)在投资者互动平台表示，公司是国内既能大规模生产墨粉又能大规模生产OPC鼓的企业，是国内打印复印静电成像 ...

葡萄籽附有大量的OpC抗氧化剂，OpC是一种强效类黄酮，主要存在于表皮与种子里，红色葡萄籽特别是OpC的有效来源，是增加人体内抗氧化活动的潜在 ...